Diseñadoras ticas más cerca de Nueva York
Melissa González mgonzalezt@larepublica.net | Lunes 27 octubre, 2014
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Diseñadoras ticas más cerca de Nueva York
La Gran Manzana recibirá al talento nacional que participará en el evento “Digital Couture Proyect Epson”
Coloridos diseños hechos por talento costarricense desfilarán en la Gran Manzana en 2015, como parte del evento “Digital Couture Proyect Epson”, que se llevará a cabo durante la Semana de la Moda de Nueva York.
También pasaron a esta etapa el equipo conformado por Lucía Romero González y Cindy Zheng Zheng, creadoras de “DUAL”.
Las cuatro diseñadoras son estudiantes del Programa Internacional de Diseño de Moda de la Universidad Veritas – Centro Superior de Diseño de Moda de Madrid.
En total, 11 representantes latinos serán parte del evento en febrero. A nivel centroamericano habrá un solo representante, que podrá asistir a la famosa cita junto a un acompañante, con todos los gastos pagos. Esta región presentó 80 propuestas.
Los participantes tuvieron que crear una colección elaborada con piezas textiles sublimadas con impresoras Epson.
El concurso se denomina “Cultura Regional”, y las propuestas se recibieron durante julio.
El objetivo es dar a conocer las tecnologías de la firma, que buscan llevar la creatividad más allá de la visión de sus clientes y además promover el talento joven.
“Epson es una firma que siempre está apoyando el diseño latinoamericano en diversos ámbitos como la fotografía, la arquitectura y ahora el diseño de moda. Consideramos que para un diseñador latino tener la posibilidad de exponer su colección en Nueva York representa un abanico de oportunidades para crecer y cumplir sus sueños”, comentó Lidia Monge, gerente de Mercadeo de Epson.
En noviembre se darán a conocer a las finalistas.
Las diseñadoras Lucía Romero González y Cindy Zheng Zheng se basaron en la estética y gráfica del arte precolombino. Cortesía Mario González / La República
Melissa González
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